功能性指标要求：

（1）微波源产生高频微波并通过波导进入反应腔激发高纯氢气产生等离子，通过控制腔内温度、压力使甲烷气体中碳元素沉积到生长台的金刚石晶片上完成半导体级单晶金刚石外延。

（2）波导系统为金属波导（包括销钉调节器、波导管等），反应腔体为双层水冷不锈钢反应腔，基片台为升降式水冷基片台。

（3）配旋转真空无油泵、涡轮分子泵，配高真空计，能显示反应腔真空度。

（4）配高精度流量计及流量控制阀，每一路气体均具有吹扫旁路的能力，通过吹扫实现管路自清洁，保证后续气体的纯度的能力。

（5）配红外测温系统，能显示基台、样品温度。

（6）标准衬底托为钼盘，可以实现金刚石样品一次生长和多次连续生长，能从四个方向观察反应腔样品。

（7）配冷水机，能使用冷却水系统对系统的反应腔、基台、微波电源等组件进行冷却，保证设备正常工作。

（8）配系统软件，配液晶触摸屏幕、PLC全自动控制系统，能对沉积过程程序控制，具备保险装置、报警单元和紧急关机功能，具备远程故障报警功能。