金刚石镀膜
金刚石镀膜即采用 MPCVD 微波等离子化学气相沉积工艺，在金属、硅基、光学基材表面沉积一层致密纯金刚石薄膜。薄膜保留金刚石高导热、高硬度、耐腐蚀、低损耗核心性能，可按需调控膜层厚度，用于芯片散热、光学窗口、耐磨元器件，兼顾散热增效与耐磨防护。
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功率密度大幅提升
金刚石导热远超铜、铍，可快速导出热量，功率密度大幅提升
使用寿命长久
高效散热，输出强度长期稳定，增强使用寿命
耐辐照性能优异
导热透光性能衰减慢，适配衍射、辐射探测等高辐射场景
可定制
可定制不同厚度金刚石窗口，适配多波段应用需求
为了匹配光学应用，化合积电提供专业金刚石镀膜服务，采用溅射、蒸镀、化镀、电镀等工艺，制备薄金、厚铜、镀钨、增透膜等多种功能膜层。该工艺成熟、膜层结合牢固，可提升金刚石导电、焊接、光学等综合性能，支持定制化膜层结构与规模化生产，广泛应用于半导体制沉设备、X射线检测设备、精密光学仪器等行业。
产品参数：
基底材料：金刚石(单晶/多晶)
金刚石热导率：TC 1200/1500/1800/2000W .(m . K)
金刚石尺寸：φ5/8/10/12/16mm; 1inch/2inch等
金刚石厚度：0.1-2mm，可定制
镀膜面积：单面，双面，六面，整面或局部
常规膜系：W/Cu/Au/Fe/Mo/Cr
常规膜厚：可定制
应用领域
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