金刚石镀膜

金刚石镀膜即采用 MPCVD 微波等离子化学气相沉积工艺，在金属、硅基、光学基材表面沉积一层致密纯金刚石薄膜。薄膜保留金刚石高导热、高硬度、耐腐蚀、低损耗核心性能，可按需调控膜层厚度，用于芯片散热、光学窗口、耐磨元器件，兼顾散热增效与耐磨防护。