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金刚石热沉片:AI 算力芯片散热核心技术路径与创新突破

时间:2026-07-08浏览次数:35

人工智能产业算力需求呈指数型扩张,AI 芯片功率密度持续逼近物理承载极限。工信部相关统计数据表明,现阶段单颗 GPU 芯片功耗已达到 1400W,行业预判 2027 年芯片功耗将突破 2000W,对应热流密度超 1000W/cm²,常规铜、铝金属散热基材已无法适配该类高热负荷工况。金刚石热沉片具备顶尖导热性能,是化解 AI 芯片高温壁垒的核心技术载体,现已在智算数据中心、边缘算力终端等核心场景实现规模化落地应用。

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AI 数据中心是金刚石热沉片最主要的落地场景,配套散热方案直接决定整机算力释放效率。伴随单机柜功耗逐步向 100kW 量级攀升,金刚石热沉依托三类成熟应用架构完成散热性能迭代升级:

(一)芯片直接键合一体式散热方案

采用金刚石衬底与 GPU 芯片直接键合成型工艺,可大幅削减界面接触热阻。实测验证结果显示,该散热架构能够将芯片峰值结温降低 24.1℃,整体热阻下降 28.5%,保障芯片满负载工况下稳定输出算力。针对 1200W 大功率算力芯片,传统散热结构会造成最高 30% 的算力降频,而搭载金刚石热沉可将降频幅度控制在 5% 以内。

(二)液冷散热系统一体化集成

金刚石热沉片与液冷换热技术融合构建高效热管控体系。在冷板式液冷设备中,嵌入金刚石热沉可使整机散热效率提升 3 倍,足以满足 5kW 功率芯片的散热需求;浸没式液冷系统搭配金刚石热沉后,机房 PUE 可降至 1.03,大型智算中心落地该方案后每年电费节约超百万元。核心性能优势源于金刚石 2000-2200W/(m・K) 的导热系数,传热能力为金属铜的 5 倍,可快速疏导芯片表面局部热斑,结合液体高吸热特性实现梯度化热量导出。

(三)多层复合散热集成架构

面向第三代半导体器件配套需求,金刚石热沉与微通道换热结构结合形成复合型散热体系。将该方案应用于氮化镓基 AI 芯片后,器件工作结温由 676℃大幅降至 182℃,从根源规避高温引发的器件失效问题。“金刚石热沉 + 微通道流道 + 液冷换热” 三层一体化架构,现已成为超算中心、大型 AI 训练集群的标准化配套方案。

除数据中心场景外,金刚石热沉片在多类 AI 算力终端场景均展现独特技术优势:

边缘算力场景下,单套 5G 基站整机功耗可达 3.5kW,基站内置 AI 运算模块搭载金刚石热沉后,芯片工作温度下降 30%,无线信号传输稳定性得到显著提升。车载自动驾驶 AI 芯片易产生瞬时高热,采用金刚石铜复合热沉基材,在 800V 高压快充工况下可于 20 秒内疏导瞬时集中热量,规避热失控风险,同时整车充电效率提升 5 倍。

航空航天设备运行温差跨度极大,对机载 AI 芯片热管控提出严苛标准;金刚石铜复合材料可稳定耐受 - 180℃至 200℃宽幅温差,有效降低卫星 AI 运算单元热失效概率,且材料热膨胀系数与碳化硅、氮化镓半导体高度匹配,大幅削弱界面循环热应力造成的器件损耗。

金刚石热沉片凭借超高导热系数、优良热膨胀匹配度与稳定化学耐受特性,成为 AI 芯片散热领域最优解决方案。无论是大规模数据中心算力集群,还是复杂极端环境下的边缘算力设备,其性能优势持续重塑高端散热材料行业格局。伴随加工制造工艺持续优化、国产材料替代进程加速,金刚石热沉在 AI 芯片散热赛道的市场渗透率将稳步提升,为人工智能产业持续技术迭代提供关键材料支撑。长远来看,随着 2000W 以上超高功耗 AI 芯片逐步普及,金刚石热沉的应用边界将持续拓宽,成为支撑算力产业变革的基础性核心材料。

化合积电是一家专注于宽禁带半导体材料研发、生产和销售的国家高新技术企业,核心产品有多晶金刚石(晶圆级金刚石、金刚石热沉片、金刚石窗口片、金刚石基复合衬底)、单晶金刚石(热学级、光学级、电子级、硼掺杂、氮掺杂)和金刚石铜复合材料等,引领金刚石及新一代材料革新,赋能高端工业化应用,公司产品广泛应用于激光器、GPU/CPU、医疗器械、5G基站、大功率LED、新能源汽车、新能源光伏、航空航天和国防军工等领域。


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